本报讯 近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司宣布，其刻蚀设备系列Primo Menova 12英寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运。

中微公司的12英寸ICP单腔刻蚀设备 Primo Menova专注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。Primo Menova基于中微量产的ICP刻蚀产品Primo Nanova研发制造，可达到高速率、高选择比及低底层介质损伤等刻蚀性能。Primo Menova搭配高效率腔体清洁工艺，可减少腔室污染，延长腔体持续运行时间；集成了配备高温水蒸气的除胶腔室（strip chamber），高效去除金属刻蚀后晶圆表面残留的光刻胶及副产物。

中微公司资深副总裁丛海表示：“中微公司开发的一系列刻蚀设备在性能、稳定性等方面满足了客户的高标准要求，并可覆盖国内大多数的刻蚀应用需求。随着新应用的进一步拓展，我们将继续推进与客户的密切合作交流，通过技术领域的持续创新，不断为客户提供极具竞争力的产品和解决方案，实现稳步发展与深度共赢。” （中 微）