2026年是“十五五”规划开局之年，今年全国两会聚焦发展新质生产力，如何实现科技创新引领、攻关关键核心技术成为核心焦点。
新型显示作为新一代信息技术的基础核心产业，正迎来高世代迭代与全球竞争的关键窗口期。金属掩膜版被誉为OLED显示面板制造中的“像素雕刻刀”，是我国新型显示产业链自主可控的关键一环。江苏高光新材料科技股份有限公司（以下简称“高光新材”）是国内OLED金属掩膜版领军企业，凭借在G8.6代高精度金属掩膜版领域的全球首创突破，为我国OLED产业实现引领筑牢上游根基。全国两会召开前夕，《中国电子报》记者专访江苏高光新材料科技股份有限公司董事长、总经理钱超，围绕产业趋势、技术突破、项目落地与国家战略适配，展开深度对话。
上游突破的核心是走向“原创引领”
记者：今年全国两会重点强调发展新质生产力，而科技创新引领、关键核心技术攻关是关键议题。结合当前全球OLED产业格局，你如何看待行业趋势？高光新材在服务国家战略、抢抓产业机遇中的定位是什么？
钱超：当前，京东方、TCL华星、维信诺等国内面板龙头，以及韩国三星显示都在加速推进高世代OLED量产计划，全球中大尺寸OLED即将进入规模化量产关键阶段。高光新材的核心定位，是做新型显示产业链上游“卡脖子”材料的突破者与稳定供应者。作为国内稀缺的OLED金属掩膜版与有机发光材料一站式供应商，高光新材聚焦高世代核心治具与关键材料国产化，为下游G8.6代线量产提供稳定支撑，以上游自主可控保障整个显示产业链安全高效运转。
记者：当前全球OLED加速向中尺寸渗透、高世代迭代，中国企业迎来“弯道超车”窗口。结合国家“高水平科技自立自强”要求，你认为显示产业链上游实现突破的关键是什么？
钱超：上游突破的核心，是从“进口替代”走向“原创引领”。既要补齐短板，更要建立自主知识产权与技术标准体系。面对G8.6 OLED产线对超大宽幅金属掩膜版的迫切需求，高光新材突破了原材料宽幅受限的行业瓶颈，自主研发高精度拼接工艺，将常规宽幅原料焊接拼合成满足高世代需求的超大尺寸原材，突破了传统连铸、轧制方式的高成本与技术限制，产品兼顾成本与稳定性，同时完成全球专利布局。
目前，高光新材是全球唯一可同时覆盖G8.6H（Half-Size，半片）与G8.6F（Full-Size，全片）全尺寸高精度金属掩膜版产品（包括G8.6H CMM 、CVD Mask、FMM和G8.6F CMM、CVD Mask）的企业，真正实现从被动适配到主动定义技术路线的转变，为下游高世代OLED量产筑牢根基。
为我国在OLED领域实现“弯道超车”保驾护航
记者：高光新材自2013年创立至今，始终紧跟国家战略与产业方向。此次高光新材不仅实现了G8.6H金属掩模版产品的国产化，还创新布局全球首创的G8.6F项目，这是基于怎样的产业判断？
钱超：在过去的十二年发展过程中，高光新材坚持技术自研，逐步成长为国内OLED金属掩膜版细分领域龙头企业，产品覆盖G2.5至G8.6全世代线。布局G8.6F项目，是高光新材基于对下一代显示技术路线及产业需求的深度判断。当前国内面板龙头并行推进G8.6蒸镀OLED、印刷OLED、无掩模光刻OLED等技术路线。其中，TCL华星全球首条G8.6代印刷OLED产线需要的金属掩模版尺寸达到传统蒸镀G6H产线的4倍以上，未来需求大幅提升。高光新材依托在TCL华星G5.5F印刷OLED产线上通过验证的技术基础，针对性攻关G8.6F超大尺寸高精度金属掩膜版，以支撑TCL华星G8.6印刷OLED产线的精度提升与量产落地。这一布局既填补全球技术空白，也为我国在高世代OLED领域实现“弯道超车”，提供最关键的上游材料保障。
记者：G8.6F项目的核心创新体现在哪里？从“Half-Size”到“Full-Size”，企业攻克了哪些行业难题？“一体成型”的超大尺寸高精度金属掩膜版将为高世代OLED面板生产带来哪些影响？
钱超：G8.6F项目的创新集中在两大“突破”：一是突破原材料宽幅限制。市面常规原材宽度仅1.2米左右，高光新材通过自研拼接工艺实现原材性能无损拼接，满足G8.6代线所需近3米宽幅需求，且拼接后的材料性能与单张原材无异，从源头解决量产瓶颈。二是实现超大尺寸下的高精度突破。在产品尺寸扩大4倍多的前提下，要G8.6F保持与G6H金属掩膜版同等的超高精度，需要攻克超大尺寸形变、均匀性控制等世界级难题。
“一体成型”的超大尺寸高精度金属掩膜版可直接赋能面板厂降本增效。以14英寸OLED笔记本电脑面板为例，G8.6F单基板切割数量达到72片，相较G6H的16片切割数量提升3.5倍，大幅降低单片成本、提升良率与产能，有望增强国产高世代OLED的产线量产进程，提升国产OLED产品全球竞争力。
记者：高光新材是国内唯一同时布局金属掩膜版与OLED有机发光材料的企业，“材料+工艺”双轨模式的优势是什么？如何与企业G8.6H和G8.6F等创新金属掩模版项目形成协同？
钱超：“掩膜版+发光材料”双轮驱动，形成独有的一体化创新优势。例如，两大业务形成资源互补，高光新材通过金属掩膜版业务深入参与客户产线调试与量产过程，可以精准把握面板厂在生产、成本和性能上的真实痛点与需求，从而开发更具竞争力的发光材料，提供全方位的解决方案。最重要的是，两大业务性能协同，掩膜版决定像素精度，发光材料决定显示效果，协同研发可实现最优匹配，从源头提升器件良率与寿命。例如，在G8.6F项目中，高光新材同步提供超大尺寸掩膜版与适配印刷工艺的新型发光材料，以整体解决方案加速产线磨合、提升量产效率，构筑难以复制的综合壁垒。
为新型显示产业高质量发展贡献上游核心力量
记者：高光新材获评国家高新技术企业、江苏省瞪羚企业、国家专精特新小巨人等多项荣誉。下一步，高光新材将如何推动产业链协同创新与行业升级？
钱超：未来，高光新材将保持技术深耕与品质坚守的决心，以开放协同推动行业升级：一是搭建产学研用协同平台，与下游面板龙头企业、高校及研究机构保持深度沟通，攻关共性技术难题；二是持续加大研发投入，以“材料+工艺”的双轨研发体系迭代产品，输出系统化解决方案，帮助下游客户降本增效，推动全产业链向高端化迈进；三是持续深化以需求为导向、以协同为路径的研发模式，致力于突破更多关键材料制约，助力构建安全、高效、具有国际竞争力的新型显示产业生态。
记者：作为深耕硬科技十余年的前沿材料企业负责人，你认为在培育新质生产力方面，高光新材应练好哪些内功？对国家与地方支持上游材料创新方面，你有哪些建议？
钱超：企业层面，在培育新质生产力方面要做好三件事：坚持长期主义研发、守住极致品质、强化产业链协同。硬科技投入大、周期长、风险高，必须耐得住寂寞。
政策层面，建议国家聚焦显示上游“卡脖子”材料与设备，设立长期专项攻关基金，支持龙头企业开展前沿技术研发；地方政府可出台精准扶持政策，对相关企业给予研发补贴、税收优惠，并牵头搭建产业链协同平台，畅通成果转化通道，让硬科技企业心无旁骛搞创新，加快实现核心材料自主可控。
记者：你对高光新材未来有怎样的期许？未来，企业将如何为中国新型显示产业高质量发展、实现高水平科技自立自强贡献力量？
钱超：面向未来，高光新材的目标是成为全球新型显示材料领域标杆企业，不止填补国内空白，更要通过原创性技术突破，在金属掩膜版和OLED发光材料的可靠性和领先性上树立国际话语权，让中国技术、中国标准走向世界。未来，高光新材将继续以“像素雕刻刀”的极致专注，坚守自主创新，深化产业链协同，为中国新型显示产业高质量发展、实现高水平科技自立自强，持续贡献上游核心力量。