本报讯 近日台积电（TSMC）在其欧洲开放创新平台（OIP）论坛上宣布，准备在2025年年末开始大规模量产N2工艺，同时A16工艺计划在2026年年末开始投产。台积电表示，目前先进工艺的开发正在按路线图推进，预计未来几年基本保持不变。

按照台积电的说法，从2025年年末至2026年年末，N2P、N2X以及A16将相继到来，且在2026年年底前为大批量生产做好准备。从技术上讲，N2P、N2X和A16有许多相似之处，包括采用了GAA架构的晶体管，另外还有高性能金属-绝缘体-金属（SHPMIM）电容器。

A16还将结合台积电的超级电轨（Super Power Rail）架构，也就是背部供电技术。这可以在正面释放出更多的布局空间，提升逻辑密度和效能，适用于具有复杂信号及密集供电网络的高性能计算（HPC）产品。相较于N2P工艺，A16在相同工作电压下速度快了8%~10%，或者在相同速度下，功耗降低了15%~20%，同时密度提升了1.1倍。

台积电设计基础设施管理主管Dan Kochpatcharin表示，A16基本上可以理解为N2P加入背部供电技术的产物。虽然背部供电技术实现更高的性能和更好的电源效率，但是台积电也指出，这种做法增加了散热问题，所以并非所有类型或者用途的芯片都适合这种设计，现阶段最合适的还是HPC芯片。（台 讯）