编者按：2024年国际信息显示学会显示周（SID DW 2024）于5月14日至16日在美国举行。作为全球显示行业盛会，SID展示了全球最新显示技术和产品，提供了洞察显示行业新风向的窗口，见证了中国显示力量的崛起。为把脉显示行业发展趋势，中国电子报特别推出专题报道，敬请关注。

从一项充满科幻色彩的前沿显示技术，到应用落地在商业、车载、生活等丰富多彩的场景中，Micro-LED显示正在加速走向大众。近日，成都辰显光电有限公司（以下简称“辰显光电”）在2024年国际信息显示学会显示周（SID DW 2024）展示了其最新创新成果——全球首款88英寸P0.5TFT基Micro-LED拼接屏，以高清晰度和高色彩饱和度的呈现效果，为现场观众带来前所未有的视觉体验。

在Micro-LED产业化道路上，辰显光电锚定大尺寸商显拼接屏市场，仅仅两年时间，实现了从Micro-LED产品频频上新到产线拉通的大步跨越，成为备受关注的“开路先锋”。

从B端到C端“大热”

Micro-LED凭借高亮度、广色域、高可靠性、长寿命等，并易于实现柔性、透明、自由拼接、传感集成诸多优势，被认为是目前最具潜力的新型显示技术之一。

如今，Micro-LED显示技术飞速发展，2024年呈现出明显的产品形态和应用场景多元化特点。今年年初，三星大型透明显示拼接屏、大陆集团9.38英寸透明车载中控显示器、联想集团17.3英寸透明笔记本电脑纷纷亮相。Micro-LED显示的应用从指挥调度、展览展示、安防监控、会议显示等商显大屏的B端领域，向C端领域拓展。

大屏商显依旧是Micro-LED显示的重要领域之一。目前市场上的LED拼接屏还存在像素间距较大、图像清晰度不足、驱动电路结构复杂、亮度和色彩不均、散热以及使用寿命较短等问题。Micro-LED显示可以实现高亮度、广色域、高可靠性等显示效果，并可以实现柔性、透明、异形拼接。

Micro-LED显示可以在商场巨幕大屏、橱窗展示、博物馆、电影院、球幕大屏等应用领域大显身手。Micro-LED显示打造的商场橱窗因高亮度、广色域的特点，更能够在第一时间抓住顾客的目光，其柔性、透明等特质可以实现虚实结合以及特殊造型，让橱窗展示多样而丰富。Micro-LED显示的高分辨率和色彩还原度助力博物馆展示文物字画，彰显古人的智慧以及文物之韵。

伴随LED芯片、驱动IC、封装等技术持续发展，Micro-LED显示技术的产业化步伐正在加快，有望成为未来显示的平台技术，并将重塑显示产业生态圈。根据洛图科技（RUNTO）预测数据，到2028年，全球Micro-LED显示屏的市场规模将突破100亿美元。

锚定大尺寸商显领域持续深耕

在Micro-LED显示技术的发展过程中，“无限拼接”被视为一项重要的产业化目标，这也是Micro-LED显示技术的一个独特优势，是传统LCD和OLED显示技术无法做到的，尤其是在高端商显领域Micro- LED具有明显的成本优势。

作为从事Micro-LED自主研发、规模生产、市场销售的企业，辰显光电研发的TFT基Micro-LED产品可以实现≤20微米无缝拼接和X轴、Y轴方向的无限拼接。

记者了解到，2023年，辰显光电陆续成功点亮14.5英寸、29英寸、58英寸P0.5无边框TFT基Micro-LED拼接屏，让Micro- LED在大尺寸拼接领域拥有了更高的分辨率和更好的显示效果，尤其满足精密图像展示和高端视觉效果需求，也满足用户任意尺寸和形状的屏幕拼接需求，适合商业展示和高端会议场所。

在此次展会上，辰显光电携全球首款88英寸P0.5前维护TFT基Micro-LED拼接屏亮相。据悉，此款产品采用25微米Micro LED芯片，像素间距0.5毫米，极大地提高了屏幕分辨率。通过特殊的表面处理技术，该产品实现低于5%的超低反射率，即使在强光下也能保持清晰显示，并特别优化了黑色的表现，增强了其层次感和沉浸感。

辰显光电副总经理钱先锐博士向《中国电子报》记者介绍了该产品的技术亮点：搭载Micro-LED专用混合驱动IC，为色彩的真实呈现提供了坚实保障；AM驱动技术能够对单个像素点进行独立控制，有效杜绝了传统LED拼接屏中常见的“毛毛虫”现象；巨量转移技术达到99.995%的高良率，修复后可100%点亮；全球首创Micro-LED混bin技术，实现屏体间亮度和色彩的高度一致性，有效消除“麻点”现象；TFT背板技术可以提高像素阵列的精度，利用其高平整度优势，打造了近乎无缝的视觉效果，并有效改善了广视角下色偏的情况。

辰显光电始终专注Micro-LED显示技术研发和产业化建设，已将自身研发、中试技术发展到可量产水平。早在2021年，辰显光电就建成中国大陆首条从LTPS驱动背板、巨量转移、修复到模组全覆盖的Micro-LED中试生产线，创造了全球业界产线建设的最快速度。

最新建设的TFT基Micro-LED生产线于2023年9月在成都奠基，这是全球首条TFT基Micro-LED生产线，生产线全部自主设计，并采用多个“首台（套）”Micro-LED量产设备，建成后将有效推动我国Micro- LED显示技术商业化进程。

辰显光电有限公司总经理黄秀颀向记者表示：“基于技术研发的成熟度和产业环境的判断，辰显光电现启动全球首条TFT基Micro-LED生产线，将率先布局大尺寸商显领域，预计2024年年底实现产品出货。”

四大核心技术“开路”未来

当下，Micro-LED技术依旧面临如芯片制造、巨量转移、驱动方案、检测修复等环节的技术难题和成本压力。作为Micro-LED研发和产业化的引领者，辰显光电修炼“四大核心技术”，实现了多项里程碑式的突破。

行业正在追求高速且精准的转移方式，在效率、良率之间取得平衡。辰显光电选择“印章转移+激光转移”作为其巨量转移技术的开发方向。当前，辰显光电Micro-LED产品主要采用25微米芯片，通过自主开发的巨量转移技术一次转移良率已达到了99.995%，修复后可达100%，未来还将不断优化提升转移良率和效率。

有着维信诺技术传承及多年研发经验的辰显光电，深知驱动架构对Micro-LED发展的重要性，率先开发Micro-LED驱动IC。记者了解到，辰显光电将数字驱动、模拟驱动二者结合，已与合作伙伴共同开发出国内首款TFT基Micro-LED专用混合驱动IC，可实现10.7亿色、10bit显示色深，600nits的亮度；扫描的发光时长较原有的PM驱动提升到64倍；不仅可避免灰阶跳变，还可降低瞬间发光亮度，实现健康护眼。

Micro-LED显示技术的核心是如何将巨量且微小的LED芯片精确地转移和贴合到驱动基板上，从而形成一个完整的显示屏。目前市场上主要有印刷电路基板（PCB）和玻璃基板（TFT）两类基板。相比于PCB，辰显光电选择的TFT路线具备更优异的光学性能、良好的平整度、低热膨胀系数、抗阻燃性能和高精度等优点。

当前，辰显光电通过自主研发的双面布线技术、侧边走线技术，使得屏体间拼缝间距≤20微米，可做到视觉上拼缝不可见，拼接效果与大尺寸单屏显示无差异。

从技术突破到产线落地，辰显光电在Micro-LED技术产业化道路上披荆斩棘，其TFT基Micro-LED产线即将量产出货，有望成为Micro-LED大尺寸商显破局的关键性进展。我们期待这样一家对技术和产品精益求精的企业，能够不断拓宽显示技术的边界，让Micro-LED显示技术为人们提供更加卓越的视觉体验。