第08版:半导体
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编辑:陈炳欣
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英特尔数十亿美元扩建D1X项目将采用EUV制造7nm芯片
 
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英特尔数十亿美元扩建D1X项目将采用EUV制造7nm芯片

 

本报讯 据报道,英特尔正在美国俄勒冈州投资数十亿美元投建产能以制造其下一代计算芯片。英特尔预计在今年6月之前开始建设,将作为希尔斯伯勒前沿研究工厂D1X项目的第三阶段,同时也是最大的一部分工程。

D1X已经成为英特尔最前沿研究的基地,也是该公司开发每一代芯片技术的地方。据相关建筑行业内部人士表示,英特尔已公开讨论了其D1X计划,该项目预计将持续至少18个月,之后进行为期数月的安装设备周期。英特尔制造业务部门人士也表示得到通知,要为今年俄勒冈州的一个主要项目做准备。

此外,据悉英特尔在正在准备采用EUV的制造工艺,每台EUV设备约价值1.2亿美元。英特尔需要在新工厂来制造其新一代的7nm计算芯片,第一代就将使用EUV,而D1X设计时已经考虑了这一点。一旦英特尔克服了诸如导致10nm一再延期的技术障碍,将有希望在未来几年推出7nm芯片。 (万 林)

 
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