本报讯 全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者新思科技（Synopsys）近日宣布，新思科技Design Platform Fusion 技术已通过三星认证，可应用于其7纳米（nm）低功耗+（LPP-Low Power Plus）工艺的极紫外（EUV）光刻技术。

新思科技Design Platform为基于EUV单次曝光布线和连排打孔提供完备的全流程7LPP支持，以确保最大程度地实现设计的可布线性和利用率，同时最大限度地降低电压降（IR-drop）。新思科技的SiliconSmart库表征工具对于研发在该认证工艺上建立参考流程所使用的基础IP非常关键。

三星已经认证了新思科技 Design Platform工具和参考流程，该流程与Lynx Design System兼容，配备用于自动化和设计最佳实践的脚本。该参考流程可通过三星Advanced Foundry Ecosystem （SAFE） 计划获得。

新思科技设计事业部营销与商务开发副总裁Michael Jackson表示：“我们与三星的工具和参考流程合作重点在于使设计人员能够使用三星最新的EUV 7LPP工艺，在最高可信度下获得最佳结果质量。采用集成了Fusion技术的新思科技Design Platform，可扩展7LPP参考流程将使设计人员能够轻松实现他们期望的设计和时间目标。”

目前可通过SAFE计划获得与新思科技Lynx Design System兼容并经认证的可扩展参考流程。