本报讯 在2018年国际信息显示学会显示周中，OLEDON首席执行官Hwang Chang-Hoon宣布了一种新的平面源FMM沉积技术，可以生产2250ppi的AMOLED。

据公开消息，目前应用于大规模生产的线性光源存在一个问题，就是由于3μm的阴影距离，要实现高分辨率会造成相邻图案的叠加。但是Hwang说，他使用平面光源成功地将图像的阴影距离减少0.18μm，这是有史以来引入的最小阴影距离。

Hwang补充说，他开发了“X-mixing”技术，在该技术中主体和掺杂剂薄膜分别沉积在金属表面上，然后主体分子和掺杂剂分子通过平面蒸发自动扩散形成发光层。Hwang评论说：“通过使用线性源蒸发技术来控制掺杂剂的成分并不容易，该技术可同时蒸发主体材料和掺杂剂材料。但是，由于‘X-mixing’技术可以控制组成，所以可以实现比传统方法高4倍的材料利用率。”

（小 林）