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编辑:诸玲珍
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EUV技术成半导体制程竞争决胜关键
 
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EUV技术成半导体制程竞争决胜关键

 

本报讯 半导体代工企业间的竞争越演越烈,台积电与三星电子也争先恐后地加强开发速度,EUV(极紫外线)技术将成为决胜关键。

据韩国媒体《ddaily》报道,三星电子和台积电接连购买10台以上的EUV设备。该设备由荷兰ASML独家生产,年产量只有30~40台,每台要价2000亿韩元。台积电与三星电子之所以愿意投巨资,主要是EUV技术是细微工程的核心。EUV微影技术能将微型的电路图案转印到晶圆上,光源波长只有ArF液浸设备制程的1/14,有效缩小电路大小,电路图案越小,越能提高电效率,并缩小芯片尺寸。

目前,三星电子在EUV制程中占领先地位。过去代工厂纷纷进入7纳米时代时,三星电子选择采用EUV制程,并于上个月抢先量产EUV制程的7纳米产品。台积电则以现有技术抢占7纳米市场,在订单竞争中占据优势,在2016年从三星手中抢下高通的订单合作至今。但细微工程仍是未来趋势,台积电预计在5纳米制程引入EUV技术。

部分分析指出,三星电子将在EUV时代重掌主导权。NH投资证券分析师指出,三星电子很快引进EUV技术,提前准备的竞争力将在5纳米制程发酵,并追击台积电。但台积电在代工领域拥有压倒性的优势,市场公司Trendforce数据指出,台积电在今年第一季的代工市场市占率为48.1%,接近一半。

《ddaily》分析,三星电子要追上台积电的路还很长。业界相关人士预测,三星电子很难在短时间内追上台积电,之前三星电子预告会大举投资在系统半导体上,加上已经抢先掌握EUV技术,往该方面追击的可能性很大。

 
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